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7rfd.com:三星EUV极紫外光刻工厂量产:7/6/5/4/3nm都能用

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  三星宣布,位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺,这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。

  据介绍,三星7LPP、6LPP工艺主要生产先进的移动SoC芯片,本季度内陆续出货,具体客户均未披露,不过看起来7LPP会是对外代工主力,6LPP则可能是三星自用,或者仅限特定客户。

  按照三星的说法,6LPP相比于7LPP可将晶体管密度增加约10%,并降低功耗,但彼此互相兼容,针对7LPP工艺设计的IP可以直接复用,从而大大降低成本。

  在路线图上,三星还规划了5LPE、4LPE、3GAE、3GAP等更先进的工艺,都会使用EUV极紫外光刻,其中5nm、4nm都可以算作7nm工艺的深度升级,3nm则是全新设计。

  高通刚刚发布的第三代5G基带骁龙X60就采用三星5nm工艺制造,3nm则会在今年完成开发,放弃使用多年的FinFET晶体管架构。

  三星V1工厂2018年2月开工建设,2019年下半年开始试产,未来将迅速扩大产能,到今年底7LPP EUV和更新工艺的总产能将是去年底的三倍,累计投资也将达60亿美元。

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